中国光刻机的新突破（中国光刻机新突破 美国要着急了）

中国光刻机如何弯道超车

芯片想要制造出来的话，必须有光刻机的存在才可以把其图片演变成一个真实的存在。目前的光刻机制造水平，大多数人是以14nm为主的建筑师。而最先进的则是荷兰ASML公司所制造的7mm的工艺光刻机。正式因为才缺少光刻机所以才能与他们达成一致，但是这样也会在一定程度上扼制我们的发展。

所以在意识到这个问题的严重性后，我国也的努力的制造光刻机并且在其领域投入了大量的人物以及财务。但是我们制造的光刻机的工艺仅限于28nm和14nm，和7nm工艺之间还存在着不小的差距。不过在最近一段时间内，中国芯片突然传出一个好消息！我国的光刻机实现了弯道超车，已经突破了9nm技术瓶颈。

根据媒体在之前的报道我们得知，由武汉光电国家研究中心的甘棕松团队，现在已经成功的研制出9nm工艺的光刻机。这次研制出来的光刻机技术与其他国家的是完全不同的，国产的光刻机是利用二束激光在自研的光刻机上突破了光束衍射极限的限制，这才刻出了最小的9nm线宽的线段，这也就是说这是属于我们独有的技术，所以有着我们自主的产权。

但是现在的9nm光刻机技术仍旧还处于试验阶段，与7nm工艺之间也是存在着一定的差距，即使我们现在无法超越荷兰的ASML，但是我们最起码可以与日本和德国的光刻机技术一较高下，我们的技术突破也只是时间问题罢了。

关于光刻机的消息在哪看

在台积电、三星、格芯等多家半导体企业的努力下，美国芯片禁令的相关限制被逐步打破，老美对华为的禁令也被解除。可让人没想到的是，老美似乎还没有真正放松对半导体设备供应商 ASML的限制。据路透社报道，在今年5月底，美国商务部就宣布已经开始对 ASML停止出口 EUV光刻机所需的材料和技术进行审查。

国产光刻机最新进展2022(中国芯片制造最新消息)(图1)

随后 ASML发布了一则公告称：为了应对美国相关限制法规的变化，公司已经开发出了一种新型 EUV光刻机，正在为实现5nm工艺制造而努力工作。 美国此举无异于让老美芯片禁令再次踩了红线。

一、ASML的现状

ASML的技术在全球范围内处于领先地位，其光刻机更是可以实现7 nm、5 nm工艺制程。据相关媒体报道， ASML目前已经向中国客户交付了超过100台 EUV光刻机，总价值超过了25亿美元。而且在今年下半年，它还将向中国客户交付超过60台 EUV光刻机，预计总价值会达到28亿美元。

国产光刻机最新进展2022(中国芯片制造最新消息)(图2)

目前看来， ASML想要在5 nm制程上取得突破是不可能的事情了，想要实现7 nm制程突破也是不可能的事情。 不过根据消息称： ASML已经开发出了一种新型 EUV光刻机来应对美国对华为的芯片禁令的变化。而且根据其公司发布的公告显示：这种新型 EUV光刻机可能会在2022年推出，也就是说今年下半年 ASML就将完成它最终的制造环节！

国产光刻机最新进展2022(中国芯片制造最新消息)(图3)

根据资料显示： EUV光刻机的原理是在紫外线的照射下，使光敏材料中的感光分子发生化学反应，从而形成一种具有特定波长特征的光波。而在这个过程中所使用的光敏材料就是由荷兰的阿斯麦公司生产。而阿斯麦公司就是全球光刻机领域技术领先者，其能够生产出世界上最先进的光刻机。可以说，我们目前使用到这种ASML出品的 EUV刻线光刻设备就是为了能够超越 ASML，超越全世界所有国家和地区对于我们技术水准提高后所能做出的贡献。

国产光刻机最新进展2022(中国芯片制造最新消息)(图4)

而且根据资料显示：荷兰阿斯麦公司也已经在中国建立了一个生产工厂，将能够生产出 EUV光刻机用于未来5 nm制程上制造手机或者电脑等电子产品。而这对于我们来说是非常重要的一件事情。

二、为什么要放弃台积电

ASML的 CEO也曾表示过，台积电在先进制程上处于领先地位。所以 ASML才会在芯片领域对它展开合作，而台积电也不会让它失望。 但现在看来， ASML已经放弃了在先进制程上与台积电展开合作，因为这对于双方来说都是一件很痛苦的事情。

国产光刻机最新进展2022(中国芯片制造最新消息)(图5)

美国对华为的芯片禁令也会影响到 ASML以后对台积电的合作，所以它就只能选择放弃了。但也有网友表示ASML已经开发出了一种 EUV光刻机，如果 ASML能够成功地将这种 EUV光刻机制造出来的话，那么未来 EUV光刻机的市场也可以被 ASML所占领。如果 ASML能实现这种新型 EUV光刻机的话，那么这将会对世界芯片产业带来很大的影响。

三、美国的芯片禁令还会继续实施下去

对于老美的芯片禁令，中国是坚决反对而不会妥协的，但也不可能放弃。首先，我们必须承认：美国这一禁令对我国是有很大的危害的。在芯片方面，我国是有很强的实力突破 EUV光刻机，可这对于我国来说是不可能实现的。 就算能够实现，那成本也将达到天文数字。

国产光刻机最新进展2022(中国芯片制造最新消息)(图6)

而 EUV光刻机目前只有 ASML才能生产和提供。而且根据业内人士透露： ASML在光刻机方面有着几十年积累了大量先进技术与经验，即便是 EUV光刻机在其手中都有可能出现重大事故。所以说要想突破 EUV光刻机，至少需要十几年的时间才能实现并投入市场使用。但我国不可能坐以待毙，既然已经有了芯片制造方面的突破，那么我们就一定要打破美国所施加的芯片禁令。其次就是我国也一直在为实现芯片自给自足而努力奋斗着！

国产光刻机最新进展2022(中国芯片制造最新消息)(图7)

此前有消息称：我国正在研发自己的光刻机等半导体设备来打破老美对华为的半导体禁运限制。这件事我们已经听闻了很久，如今已经进入到实施阶段。就连中芯国际、华虹半导体等企业都在为实现量产而努力奋斗着！我们有理由相信：只要我国坚定地走下去，终有一天可以实现芯片国产化！可谁也没想到美国却一直在不断践踏我国的努力！

国产光刻机新突破！美国发放2614亿补贴，理性分析：赶超才刚开始

值得说明的是，这已经是继六月份CHIPS法案（为五角大楼和其它政府运行机构的芯片制造项目提供最少120亿美元的资金）以来第二项针对半导体行业的资助，如果通过，将会像为美国芯片制造行业带来370亿美金（合计2614亿人民币）的补贴。

国产28纳米光刻机将量产，美国慌了

众所周知，美国在高 科技 行业有着几乎垄断的地位，此次针对芯片制造行业的巨额补贴一方面展现了美国政府对于高 科技 行业的重视，但更重要的一点是面对我国在芯片领域的不断进步有点慌张了，据悉，上海微电子于六月透露，将在明年或后年交付首台国产的28纳米工艺浸没式光刻机，此前国内的光刻机制造工艺还停留在90纳米。

光刻机的制造并非是一夕而成的，和国外相比，国内的光刻机技术起步较晚，又受到了西方国家相关技术的封锁，在研发的道路上只能摸着石头过河，甚至是芯片制造行业的权威人士，台积电创始人张忠谋也曾表示不看好大陆的芯片制造行业，此次上海微电子在光刻机制造上的重大突破，无疑是国内 科技 产业对于西方技术封锁的一次有力回击。

尖端技术的突破，离不开国家的帮助

作为目前最为精密的设备，光刻机的制造无疑是非常困难的，即便是在该领域内技术最为先进ASML公司，在制作光刻机的时候也需要德国的机械工艺、日本的复合材料、瑞典的工业机床技术以及美国提供的光源，在西方技术的封锁之下，国产光刻机更是寸步难行，面对如此困境，我国在2014年就以成立了国家集成电路产业投资基金，投资了多家半导体公司，在2018以及2019两年，我国对芯片业的投资金额也高达220亿元。

在国家的大力支持下，我国在芯片制造行业也有着许多新的进展，中微半导体的5纳米蚀刻机已经通过了台积电的验证，并将正式运用于今年5纳米芯片的发展，处于世界领先地位；还有制造芯片中的关键设备离子注入机也达到了国际先进水平，除此之外，还有南大光电的光刻胶打破了日本企业的垄断地位，都展现出了国产半导体技术蒸蒸日上的势头。

差距不容忽视，光刻机技术仍然落后

虽然上海微电子在国产光刻机制造商得到了突破，但是回归理性，我们还是不得不承认，28纳米的光刻机和荷兰ASML公司的5纳米光刻机仍然存在着巨大的差距，而且这种差距并非是一朝一夕就能够赶上的，以美国为首的西方国家对于我国的技术进步也必将采用更加严苛的技术封锁手段。

不只是光刻机，国内还有许多技术在不断的追赶着西方国家的脚步，我相信只要有足够的时间，技术的反超并非是完全没有可能的，那么你怎么看待国产光刻机的突破呢？一起来聊一下吧！

国内传来消息，清华大学科研成果再立功，光刻机之路一片坦途

相信很多人都知道，华为被芯片禁令限制了进一步的发展，但这个限制也仅仅是在制造端，而不是设计端。此前华为任正非就曾表示，所谓封锁也只是封锁了制造芯片的光刻机等设备，而并不能阻碍中国自主研发设计芯片的发展。这意味着，华为是有能力设计出全球最顶尖的芯片，而仅仅是受制于制造端。

杀不死我的必将使我更加强大，就在芯片禁令生效之后，华为内部甚至中国企业，纷纷都开始重新认识自主研发 科技 的重要性。将重要的 科技 掌握在自我手中，不用再受制于人，是每一个出海的中国企业必须面临的问题。与此同时，也开始投入重金在半导体 科技 领域。

这次卡脖子的光刻机技术，是重中之重。不过国外的各种公司却依然投来了鄙视的目光，认为光靠中国自主技术去研发，根本不可能设计出自研芯片。随着国外势力的这种冷嘲热讽，中国各高等院校开始加入了这一场反击战。

让技术的回归技术，光刻机在内部结构中，最主要的三个部件就是光源、光学镜头，以及双工件台系统了。

最近一段时间，年初开始进行光刻机研究的清华科研队伍，终于取得了新的突破。唐传祥带领的科研团队，通过新的验证方式，获得了一种新型加速粒子，命名为稳态微聚束。而它最重要的波长对应的波段，刚好是EUV光刻机所需要的核心光源技术。

这一消息被证实后，许多国外的光刻机设备工程师都不由地赞叹，该来的还是来了。这一步骤的完成，将预示着中国自造的光刻机研发成果，已经进入了新的里程碑。

这个消息也让很多关心中国光刻机进展的朋友们，大为惊讶。也发出了另一种赞叹的声音，有可能中国将在未来几年之内获得更快速的进展，包括了目前难以攻克的光刻机设备。不过来自国内的声音，清华大学科研的成功，预示着光刻机高精尖技术的加速，可能真的用不了几年就能收获更大的惊喜。

果不其然，据最新媒体的报道显示，清华科研团队参与的项目中，华卓精科研发的成果方面，本身产品的应用精度已经达到了世界先进水平，1.8nm的参数足以媲美当今先进的光刻机标准。

而我们知道，双工件是ASML这家机构最看重的技术。ASML不用多解释，作为世界最先进的 光刻机设备制造商，实力非常雄厚。这次清华团队的研究成果能够匹配ASML的1.8nm水平，就已经说明了我国的实力，毕竟连日本的尼康等公司，都没有能够做到1.8nm的水平。

这个结果足以打脸国外之前那些媒体，另外除了我国的高等院校参与之外。目前，中科院的高能辐射光源设备，也已经能够用0.1nm镀膜的参数，全力投入使用。

至此目前EUV光刻机所需的三大件均已完成里程碑的突破，这标志着量变终于引起了质变。国内的中科院教授同样发出这样的感叹，有这样的进度和人才储备，未来3年之内完成光刻机的初步模型，指日可待。

而国外ASML一直以来唱衰中国自研科学实力的做法，其实也很容易理解。一来是各国所处的角度不同，二来是很担心中国来冲击到它的世界光刻机的地位。

打铁还需自身硬，中国自研 科技 实力一步一步增强，也让竞争对手们胆寒。 科技 的博弈是未来的主旋律，不断增强人才储备和技术科研成果的更新，才能够不落后。核心技术就要掌握在自己手中，中国芯势必会走出一条自己的康庄大道。

央视：光刻机技术新突破，ASML亲手“逼”出来一个“致命对手”

中国和中国企业的飞速发展是所有人都看在眼里的，所以这也成为了某些国家的眼中钉，肉中刺。所以某国的报复也随之而来。从5G被华为研发开始，快速占领了全球市场的华为遭到了无数的针对，而某国因为眼红技术给华为下了一纸限令。而这样的结果让全球的半导体领域的企业全部乱了套，半导体行业的飞速发展戛然而止，此刻我们才终于明白，技术掌握在自己手里，那才是最重要的。

华为目前的情况不容乐观，但是相信任正非也有了缓解的办法，目前的华为像是一头韬光养晦的猛虎。但是某国的做法实在太过无耻，有了第一次，那么就会有第二次，第三次。这样制裁下来不仅仅会拖慢我国 科技 发展，对于我国工业发展也会造成很大的影响。从此刻开始，我国的高 科技 领域的企业纷纷把目光投入到了自研当中。一时之间，自研热潮开始席卷国内半导体领域，投入的企业犹如过江之鲤。而这样的情况也让国内的半导体行业在技术方面有了一次又一次的突破。而随之而来的却是更大的问题。

芯片的核心制造需要用到高精准度的光刻机，而普通的光刻机又无法满足我们对于低nm的需求。全球唯一一家EUV光刻机厂商，因为美国施压，导致18年订购的到现在还没有交付。

可以说，EUV光刻机是有钱也买不到，而且也成为了半导体自研发展的“拦路虎”。

有困难就会有解决办法，我们只能是往前猛冲，既然没有光刻机，那我们就研究光刻机。没有低nm技术我们就自主开发。据小道消息称，中芯国际已经基本上把3nm和5nm的芯片技术掌握。只要光刻机到位，什么问题，都将不是问题。

而光刻机的研发也被提上了日程，一个一个的技术问题都被发现解决。而央视最近也传来光刻机的捷报，由于辐射光源不足，我们在高端光刻机方面迟迟不能更进一步。而目前这个问题已经被解决，核心技术方面也已经有部分开始掌握。

这个消息一出，估计阿斯麦也在头疼了，当初阿斯麦的总裁曾经说过，中国作为一个工业大国，把其逼到自主研发，对谁都没有好处。但是阿斯麦始终没想到我们能发展的如此迅速。阿斯麦这是亲手“逼”出来了一个能对自己造成“致命伤害”的对手。